电子行业专用超纯水设备应用领域

电子制造应关注超纯水水质，在大规模IC的超纯水水质中，优先关注的水质指标为：电阻率、微粒、TOC(总有机硅)、硅、碱金属、碱土金属、重金属、溶解氧、在超纯水中，细菌的影响与TOC、微粒基本相同，在IC光刻工序的清洗用水中假如含有不纯物质或微粒，将导致栅氧化膜厚度不均，产品图形发生缺陷，耐压性变差，超纯水中的微量有机物会使产品结晶不良，在IC芯片制造过程中，与硅片接触的水所含离子越多，对产品良率影响就越大。电阻率反映了超纯水中离子的含量，超纯水的电阻率越高，其纯度也就越高。一般来讲，在25℃时，理论纯水的电阻率是18.25MΩ·cm。

应用领域：半导体材料、光电子产品、高科技精微产品超纯水设备；

水源：市政自来水                               水质要求：a、电阻率：≥18.2MΩ/cm

压力：0.35MPa                                            b、TOC：   ＜10mg/L                                          

温度：25℃                                               C:Particle：＜0.1μm

PH：  6-8                                                d:Particle：＜0.2μm

有机物：（TOC）≤0.5 （建议为零）                        重金属：（Fe、Mn）≤0.01mg/L 

工艺流程;

原水→预处理→保安过滤器→中间水箱→一级高压泵→一级RO反渗透装置→一级RO水箱→二级高压泵→二级RO反渗透装置→二级RO水箱→EDI增压泵→EDI(CEDI)电去离子水系统→氮封水箱→核子级抛光混床→终端精密过滤器→UV紫外线杀菌→终端用水点。